中国首台国产先进光刻设备投入测试 英国《金融时报》报道称，中国顶级芯片制造企业正在测试国内首台国产先进芯片制造设备。据两位知情人士透露，在中芯国际集成电路制造有限公司（SMIC）的推动下，上海初创企业"宇量昇"研制的深紫外（DUV）光刻机已进入试运行阶段。此举旨在响应国家减少对海外供应商依赖、提升人工智能处理器自主制造能力的战略部署。 据悉，该设备大部分零部件已实现国产化，不过部分零部件仍需进口。项目知情人士向媒体透露，这款光刻机采用与荷兰阿斯麦（ASML）相似的浸没式光刻技术。目前美国出口管制禁令禁止阿斯麦最新型号光刻系统对华销售。
