路透社把中国EUV 光刻机的发展轻描淡写地归结为“逆向工程”，这听起来既熟悉，又令人发笑。 真当尖端科技是拆乐高积木？以为把机器拆开再装回去，就能复刻出人类最精密的工业奇迹？且不说ASML的EUV光刻机从未向中国出口过一台完整设备，连核心零部件的图纸都被层层封锁，没有样品、没有数据、没有技术文档，“逆向”二字简直是无稽之谈！要知道，一台EUV光刻机包含超过10万个独立部件，拆分到最小单元更是突破300万个，供应链牵扯全球5000多家厂商，德国蔡司的反射镜要镀40-100层纳米膜，平整度达原子级，美国Cymer的光源需每秒轰击5万个液态锡滴，容错率近乎为零，这些顶尖技术连模仿的门槛都摸不到，何谈逆向？ 中国在光刻领域的探索，从来不是从零开始的跟风，而是有迹可循的坚守与突破。早在1977年，中国就成功研制出GK-3半自动光刻机，比ASML的成立时间还早7年；1980年清华大学开发的第四代投影光刻机，精度已达3微米的国际主流水平。后来因市场选择进口潮，自主研发一度放缓，但当2018年后外部封锁骤然收紧，美国逼迫荷兰限制DUV乃至EUV出口，甚至切断设备维护和备件供应时，中国科研人没有退缩，而是重新拾起了尘封的技术积累。 这场突围走的是一条“换道超车”的自主路线，而非重复ASML的老路。长春光机所攻克多层膜反射镜技术，打破蔡司的垄断；上海光机所研发的固体激光光源，转换效率达3.42%，超过国际同行2%-3%的平均水平；清华大学提出的SSMB-EUV新型光源方案，更是被《自然》杂志认可，雄安相关实验设施已启动建设。这些突破没有一项依赖“逆向”，反而在核心环节实现了技术迭代——国产EUV原型机成本仅为ASML的三分之一，能耗降低七成，这种差异化优势，恰恰是自主创新的最好证明。 路透社的轻描淡写，本质上是西方中心主义的偏见作祟。就像当年中国高铁、5G技术崛起时，他们也曾抛出“抄袭论”，却选择性忽略中国高铁焊缝误差控制在0.1毫米内的硬实力，无视5G专利数量全球第一的事实。如今面对光刻机突破，他们依旧不愿承认，中国早已具备构建自主产业链的能力：上海微电子28纳米DUV光刻机进入客户验证，国产化率超85%；北方华创等配套厂商跟进，中芯国际展开工艺对接，一个全链条自主的生态系统正在形成。这种系统性攻坚，是“逆向工程”根本无法解释的——毕竟没有任何一种逆向，能凭空创造出全新的技术路线和供应链体系。 更讽刺的是，ASML CEO自己都坦言“封锁加速中国自主创新”。当西方以为靠技术垄断能卡住中国脖子时，却忘了中国最擅长的就是在绝境中破局。从1964年的原子弹到如今的光刻机，每一次被封锁的领域，最终都成了中国科技自立的标杆。路透社口中的“逆向工程”，不过是对中国科研人数十年坚守的漠视，对“自主创新”的刻意矮化。 真正的核心技术，从来都买不来、讨不来，更逆向不来。它藏在长春光机所实验室的深夜灯光里，躲在上海微电子装配车间的毫米级校准中，凝聚在数十万科研人员和产业工人的汗水里。中国EUV的突破，不是偶然的“复制粘贴”，而是国家战略支撑、产业链协同、科研人执着追求的必然结果。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
