好消息，中国已经开始大力发展光刻胶！ 中国对日本祭出严厉制裁后，不少人担忧日本会

好消息，中国已经开始大力发展光刻胶！ 中国对日本祭出严厉制裁后，不少人担忧日本会拿光刻胶这一“卡脖子”材料反制，毕竟全球90%的光刻胶市场曾被日企垄断，高端ArF光刻胶此前进口依赖度超90%。 然而，紧接着，广州市就印发了广州市加快建设先进制造业强市规划（2024—2035年），规划说：广州要加快光刻胶、高纯度化学试剂、电子气体、碳基、高密度封装基板等材料研发生产，培育壮大化合物半导体IDM（集成器件制造）、宽禁带半导体材料、电子级多晶硅及硅片企业。 广州发布这个消息，不是空穴来风，一定是已经有了相关产业基础，中国凭借制度优势、人才储备与产业积淀，必将快速实现光刻胶等关键材料的自主可控。 广州此次明确将光刻胶、高纯度化学试剂等纳入重点研发清单，并非孤立行动，而是国家层面产业链攻坚的缩影。从政策支持来看，广州开发区对相关产业化项目最高给予1000万元设备投资扶持，花都区专门出台新材料产业支持政策，这种“政府搭台、企业唱戏”的体制优势，让创新资源快速集聚。国家500亿专项资金注入与“2026年晶圆厂国产胶采购比例不低于40%”的硬性要求，更给产业发展吃下定心丸。 如今日本虽收紧出口管制，将审批周期延长至90天，甚至停供部分高端产品，但这反而加速了国产替代进程。从广州的产业布局到全国的技术突围，从政策扶持到市场驱动，中国已构建起全方位的攻坚体系。相信在强大的制度保障、充足的人才储备与持续的技术迭代下，光刻胶等关键材料的自主化需求很快就能满足，所谓“反制”终将成为推动中国半导体产业自立自强的催化剂。