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溅射靶材是半导体、面板、光伏PVD制程核心耗材,用于在基片上沉积金属薄膜。全球高

溅射靶材是半导体、面板、光伏PVD制程核心耗材,用于在基片上沉积金属薄膜。全球高端市场由日矿金属、霍尼韦尔等美日企业垄断,整体国产化率不足10%,先进制程国产化比例更低。