众所周知，目前光刻机的市场竞争格局属于高度集中，且技术壁垒也极高。荷兰阿斯麦ASML领头，在EUV领域近100%的市占率，DUV领域市占率80%+。紧跟其后的是日本的佳能和尼康，市占率虽然低，但好在两者都在试图开发新的技术和设备来替代EUV，暂未成功。排在后面的是美国英特尔、韩国三星、中国微电子等，以不同的方式寻求追赶和突破当前最先进的EUV技术。 就在8月14日，中国首台电子束光刻机投入市场，取名“羲之”，精度达到0.6纳米、线宽0.8纳米。用的是电子束扫描技术，不同于EUV的光刻。虽然效率不如EUV，但成本较DUV、EUV低一些，适用于小批量高精度的需求。但客观说目前电子束光刻机，无法替代EUV光刻机，效率和良品率是大瓶颈。后续衷心希望光刻机市场出现更多的中国企业及技术的身影。 #头号创作者激励计划#
