光刻机战场刚刚传来重磅消息！尼康突然甩出王炸，全球首台无掩膜光刻机横空出世，直接瞄准AI芯片封装环节，这招避开EUV正面战场的打法堪称绝妙。
这台型号DSP-100的设备彻底抛弃了传统物理掩模，改用空间光调制器直接“打印”电路图案，能把AI芯片的设计迭代周期从几周压缩到几天。
更厉害的是，它支持600毫米见方的超大基板，能同时放下36颗AI加速器核心，单位面积效率足足是传统300毫米晶圆工艺的9倍。看来半导体行业的游戏规则真的要变了。
当ASML还在EUV战场上独孤求败的时候，尼康已经另辟蹊径，在面板级封装领域开辟了新蓝海。这种“绕道超车”的思路，正好印证了行业的老话：技术没有绝对的门槛，只有还没被打破的思维定式。
其实中国光刻机产业链也在悄然布局。上海微电子的90nm光刻机已经拿下国内八成市场，28nm浸没式设备也进入验证阶段。
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与我们何干？美国让它禁售，日本敢反着做吗？
你好
好了，你以后不要发帖替小日本吹嘘了
蒙尘自帚
道阻且长