国产光刻胶技术太牛啦! 近期实现重要突破,成功研制出 可用于28纳米及以上制程的

英炜善待 2026-01-07 22:13:44

国产光刻胶技术太牛啦! 近期实现重要突破,成功研制出 可用于28纳米及以上制程的 ArF光刻胶,并已在部分晶圆厂 验证通过。 这一进展打破了国外长期垄断, 为芯片制造关键材料自主化 奠定基础。 南大光电、上海新阳等企业 持续攻坚,在分辨率、 敏感度、线宽粗糙度等核心 指标上追赶国际先进水平。 产业链上下游协同创新, 正加速向更高端制程迈进。 突破“卡脖子”环节, 彰显中国半导体材料 领域的创新韧性与决心, 为保障产业链安全 提供有力支撑。光刻胶 中企光刻机 极紫外光刻技术

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