国产光刻胶技术太牛啦! 近期实现重要突破,成功研制出 可用于28纳米及以上制程的 ArF光刻胶,并已在部分晶圆厂 验证通过。 这一进展打破了国外长期垄断, 为芯片制造关键材料自主化 奠定基础。 南大光电、上海新阳等企业 持续攻坚,在分辨率、 敏感度、线宽粗糙度等核心 指标上追赶国际先进水平。 产业链上下游协同创新, 正加速向更高端制程迈进。 突破“卡脖子”环节, 彰显中国半导体材料 领域的创新韧性与决心, 为保障产业链安全 提供有力支撑。光刻胶 中企光刻机 极紫外光刻技术

国产光刻胶技术太牛啦! 近期实现重要突破,成功研制出 可用于28纳米及以上制程的 ArF光刻胶,并已在部分晶圆厂 验证通过。 这一进展打破了国外长期垄断, 为芯片制造关键材料自主化 奠定基础。 南大光电、上海新阳等企业 持续攻坚,在分辨率、 敏感度、线宽粗糙度等核心 指标上追赶国际先进水平。 产业链上下游协同创新, 正加速向更高端制程迈进。 突破“卡脖子”环节, 彰显中国半导体材料 领域的创新韧性与决心, 为保障产业链安全 提供有力支撑。光刻胶 中企光刻机 极紫外光刻技术

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