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没想到中国光刻胶研发的 “大佬” 级别的人物竟然是她。 她就是 2026 年新

没想到中国光刻胶研发的 “大佬” 级别的人物竟然是她。

她就是 2026 年新晋中华人民共和国国际科学技术合作奖得主 —— 艾尔莎・瑞秋曼尼斯。

可能不少人对这个名字很陌生,但在全球半导体光刻材料领域,她绝对是殿堂级的大佬。

说她是殿堂级真不是夸张。这位 1953 年出生的拉脱维亚裔美国化学家,是美国理海大学的杰出讲席教授,同时手握美国国家工程院、国家发明家科学院、艺术与科学院三个院士头衔,还当过美国化学会主席、美国工程院主席团理事。

放在全球材料化学圈,这履历属于是 “教科书级别的顶配”,随便拎一个头衔出来,都够普通学者追一辈子。

她最硬核的战绩,是在上世纪八十年代的贝尔实验室,硬生生趟通了深紫外光刻胶的工业化道路。

那时候芯片行业正卡在上不去的死胡同里:所有人都知道,要把芯片做小就得用更短波长的深紫外光,可当时的光刻胶灵敏度太差,深紫外光能量低,照半天都刻不出清晰的线路。深紫外光刻技术眼看就要烂在实验室里,摩尔定律差点直接止步在半微米制程。

别人都在死磕怎么提高光刻机的曝光功率,瑞秋曼尼斯换了个完全不搭边的思路,搞出了 “化学放大光刻胶”。

原理说穿了挺巧妙:光刻胶里加一种光酸产生剂,吸收一个深紫外光子就释放出微量的酸;后续烘烤的时候,酸就像催化剂一样,能触发成百上千次树脂反应。相当于一个光子能干以前上百个光子的活,光刻胶的灵敏度直接翻了百倍。

就这么个看似简单的化学创意,直接把深紫外光刻从实验室拽进了量产工厂。后来 248 纳米、193 纳米光刻机大行其道,芯片制程从微米级一路挤到 7 纳米,甚至现在的极紫外光刻技术,底层的感光逻辑还在沿用她当年奠定的框架。

圈内有句半开玩笑的评价:没有瑞秋曼尼斯的化学放大光刻胶,全球芯片产业至少要晚发展十年。

除了光刻胶,她还顺手搞出了全球首个柔性半导体晶体管,相当于给现在的折叠屏、可穿戴设备铺好了最早的材料地基。横跨芯片制造和柔性电子两大核心赛道,还都做到了奠基人的级别,这实力放在全球都找不出几个。

很多人好奇,这么一位美国顶级科学家,怎么会拿到中国的国际科技合作最高奖?答案很简单:二十多年实打实的合作,从来不是走个过场的面子工程。

早年间她在贝尔实验室带队的时候,就特意培养了一批华裔科研人员,没少给当时底子还薄的国内半导体材料圈传经验、搭人脉。

2005 年,她直接带着美国化学会的官方代表团访华,和中国化学会、北京大学、中科院化学所都敲定了长期合作。那时候国内材料领域的国际交流还远没现在频繁,这种级别的学者主动带队合作,分量有多重可想而知。

真正的深度绑定是 2013 年之后。她和东华大学先进纤维材料全国重点实验室敲定了长期合作,当起了实验室国际咨询委员会的主任。

说是顾问,其实干的是全职带队伍的活:联合培养博士生,一起攻关前沿材料课题,连先进纤维与聚合物材料国际会议,她连续四届担任学术委员会主席,硬生生把这个学术会议办成了全球规模最大的纤维主题盛会。

合作十几年,她带出来的学生里有好几位入选了国家级人才计划,双方联合发表了 18 篇高水平学术论文,还合作出版了专著。早在 2024 年,她就已经拿到了上海市国际科技合作奖,这次拿下国家级奖项,算是水到渠成。

最让人感慨的是时差细节。中美差着十二个小时,国内团队经常要在深夜做关键实验,她就熬着自己的凌晨时间在线答疑,帮着调实验参数、梳理科研思路,十几年里这种跨洋熬夜指导早就成了常态。

当然也得说句实在话,别误会成 “中国光刻胶全靠外国专家”。

国产光刻胶这些年的阶段性突破,核心是本土科研团队和企业日夜攻坚的结果。瑞秋曼尼斯的价值,更多是在基础原理、科研方法和人才培养上,帮国内团队少走了很多前人踩过的弯路,把中国的先进高分子材料研究直接拉到了能和国际一线平等对话的水平。

而且她的合作很有分寸:基础科学的通用原理、公开的科研思路毫无保留,但涉及企业量产的专属工艺参数、特定领域的涉密方向,会主动划清边界。这种既真诚又讲规则的合作,反而能走得更长远。

这次她拿下国际科技合作奖,其实也是个很有意思的信号。科技竞争归竞争,但基础科学的交流从来不该有绝对的国界。真正能帮我们补短板的,从来不是花钱买现成的技术,而是能沉下心一起做研究、带人才的顶尖学者。

毕竟卡脖子的从来不是某一款材料,而是背后一代代的人才积累和科研思路的沉淀。