“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 光刻机简单说就是造芯片的“超级刻刀”，要在指甲盖大小的硅片上刻出几百万个细微电路，这些电路的宽度比头发丝的千分之一还要细。这种极致的精度要求，使得光刻机成为人类工业史上最复杂的精密设备之一，它的研发制造早已超越单一国家的工业能力范畴，变成了全球顶尖技术的集体结晶，美国作为科技强国尚且无法独立完成，中国面临的挑战更是难以想象。 目前全球唯一能批量生产最先进EUV光刻机的荷兰ASML公司，其产品根本不是荷兰一国的成果，而是集合了近800家全球供应商的核心技术。 这些供应商遍布欧美日等发达国家，德国蔡司提供的光学镜头要达到纳米级精度，每一片镜片的加工误差不能超过原子级别，这种工艺积累需要上百年的技术沉淀；美国Cymer公司研发的极紫外光源，要在真空环境中产生波长仅13.5纳米的激光，其功率控制难度堪比在狂风中点燃一根火柴并保持稳定燃烧；日本的精密轴承和陶瓷部件，能确保光刻机内部机械结构在高速运转中依然保持微米级定位精度，哪怕是温度变化0.1℃都可能影响整机性能。 美国虽然在半导体设计和设备领域占据优势，但缺少这样完整的顶尖供应链支撑，同样无法独立造出EUV光刻机，这也印证了“没有一个国家能单独完成”的客观现实，却不代表中国只能望而却步。 朱士尧教授的判断忽略了一个关键逻辑：全球协作的技术结晶并非不可拆解，更不是无法复刻。中国面对的从来不是“从零创造所有技术”，而是在现有技术体系中突破关键环节，构建自主可控的产业链。过去几年，美国联合荷兰对中国实施光刻机出口管制，禁止ASML向中国出售EUV设备，这种封锁反而倒逼中国产业链加速整合。 在光学系统领域，茂莱光学的DUV物镜精度已达到国际同类水平，成功进入上海微电子供应链，而奥普光电主导的EUV物镜研发，正在逐步缩小与德国蔡司的差距；光源方面，福晶科技的深紫外非线性晶体成为核心材料支撑，其研发的EUV光源用晶体已进入验证阶段，打破了国外在该领域的垄断。 这些突破看似零散，却正在编织一张完整的国产供应链网络。光刻机的精密机械控制环节，电科数字的纳米级位移控制系统已经实现量产，能精准控制光刻镜头的运动轨迹；温控系统方面，同飞股份的技术能将温度波动控制在±0.01℃以内，确保光刻过程中电路线宽的稳定性；甚至在被视为“卡脖子”的光刻胶领域，南大光电的ArF光刻胶已经通过中芯国际验证，配套28nm制程实现规模化应用，结束了国外企业的独家供应。 这些进展不是孤立的技术突破，而是形成了“部件突破—整机集成—工艺验证”的正向循环，恰是中国工业体系最擅长的攻坚模式。 上海微电子作为国产光刻机整机的核心企业，已经实现90nm光刻机的量产，并且正在冲刺28nm工艺的关键节点，其研发的设备已经获得中芯国际的批量订单，开始进入商业化应用阶段。这意味着中国不仅能造出光刻机，还能形成“研发—生产—应用”的闭环，这种产业生态的构建远比单一设备的研发更具战略意义。 要知道，ASML从研发到量产EUV光刻机用了近20年时间，而中国在外部封锁的情况下，用更短的时间走完了从基础研发到产业落地的关键路程，这种速度背后是中国超大规模市场的支撑和集中力量办大事的制度优势。 美国造不出光刻机，根源在于其产业链“去工业化”导致的部分环节空心化，而中国正在补全工业体系的每一块短板。从超高纯气体传输系统到纳米级检测模组，从精密结构件到光刻掩膜技术，国内20余家核心企业已经覆盖了光刻机研发制造的全链条，这种系统性的产业布局正是突破技术封锁的关键。 朱士尧教授的“永远造不出来”，本质上是忽视了中国在技术攻坚中的韧性和产业升级的规律。历史已经多次证明，从两弹一星到高铁、5G，中国从来没有在技术封锁面前低头，反而总能在压力下实现跨越式发展。 光刻机的研发之路注定漫长且艰难，EUV光刻机的完全国产化可能还需要时间，但这并不意味着“永远无法实现”。全球科技协作的本质是技术的流动与融合，而中国正在用自主研发打破这种流动的壁垒，构建起平行的技术体系。 当上海微电子的整机技术不断迭代，当国产核心部件的精度持续提升，当中芯国际的工艺验证不断推进，所谓的“技术天花板”正在被逐步突破。美国都造不出的说法，本身就说明光刻机的研发是全球协作的结果，而中国正在成为这个协作体系中不可或缺的新力量，甚至在部分领域实现了超越。 所谓“中国永远造不出光刻机”的论断，既低估了光刻机作为全球技术结晶的可拆解性，也忽视了中国产业升级的坚定步伐和制度优势。技术封锁可以延缓进程，却无法阻挡一个国家追求科技自立的决心。
