看外围消息，几乎确认了，上海微已经量产浸润式DUV光刻机了，SSA800系列的。
该光刻机不需要多重曝光可直接制造28nm芯片，多重曝光可用于7nm甚至更先进芯片，良率据称高达80%以上，已经开始量产交付了，今年 5 台，明年 20 台。
全球能量产EUV光刻机的只有ASML一家，能量产浸润式DUV的有ASML和尼康两家中国大陆曾是ASML最大买家，一度占其营收49%。
现在国产化一起了，外围开始垮是合理的。
浸润式DUV与干式DUV的区别是在晶圆前加一层水，让193nm波长光线变成134nm。
背后的意义很明确啊
上海微量产，ASML在中国市场的DUV光刻机业务将受到重大冲击，所以 ASML 今天躺很合理，存储躺也是合理的，因为存储芯片用DUV。
简单说就是：国产光刻机快突破了。美股
评论列表